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关于PVD技术

浏览:733 发表时间:2018-02-26 11:18:23

PVD 即物理气相沉积,分为:真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。我们通常所说的PVD镀膜,指的就是真空离子镀膜;通常说的NCVM镀膜,就是指真空蒸发镀膜和真空溅射镀。与传统的电镀法相比,真空镀膜技术具有很多的优点,如装饰效果好,金属感强,成本低(约为传统电镀的1/3~1/2),污染小,真空镀膜设备易于操作等。鉴于此,真空镀膜已被广泛应用于很多领域。

 

真空蒸镀基本原理:在真空条件下,使金属、金属合金等蒸发,然后沉积在基体表面上,蒸发的方法常用电阻加热,电子束轰击镀料,使蒸发成气相,然后沉积在基体表面,历史上,真空蒸镀是PVD法中使用最早的技术。

蒸发真空镀膜机具备的特点比较多:例如设备比较简单,容易操作。沉积速率比较大,成膜比较快,相对来说,膜的纯度也是比较高的

 溅射镀膜基本原理:充氩(Ar)气的真空条件下,使氩气进行辉光放电,这时氩(Ar)原子电离成氩离子(Ar ),氩离子在电场力的作用下,加速轰击以镀料制作的阴极靶材,靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。 溅射镀膜中的入射离子,一般采用辉光放电获得,在l0-2Pa~10Pa范围,所以溅射出来的粒子在飞向基体过程中,易和真空室中的气体分子发生碰撞,使运动方向随机,沉积的膜易于均匀

。磁控溅射真空镀膜设备主要用于各种灯饰、家电、锺表、玩具以及美术工艺等行业,在金属或非金属(塑料、玻璃、陶瓷)等制品镀制铝、铜、铬、钛、锆、不锈钢等系列装饰性膜层。

离子镀基本原理:在真空条件下,采用某种等离子体电离技术,使镀料原子部分电离成离子,同时产生许多高能量的中性原子,在被镀基体上加负偏压。这样在深度负偏压的作用下,离子沉积于基体表面形成薄膜。

多弧离子真空镀膜机的应用范围: 

1、在硬质涂层中的应用:切削工具、模具和耐磨耐腐蚀零件等。

2、在防护涂层中的应用:飞机发动机的叶片、汽车钢板、散热片等。

3、在光学薄膜领域中的应用:增透膜、高反膜、截止滤光片、防伪膜等。

4、在建筑玻璃方面的应用:阳光控制膜、低辐射玻璃、防雾防露和自清洁玻璃等。



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