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PVD技术四个工艺步骤

浏览:880 发表时间:2018-02-27 13:32:37


(1)清洗工件:接通直流电源,氩气进行辉光放电为氩离子,氩离子轰击工件表面,工件表层粒子和脏物被轰溅抛出;

(2)镀料的气化:即通入交流电后,使镀料蒸发气化。 

(3)镀料离子的迁移:由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞以及高压电场后,高速冲向工件; 

(4)镀料原子、分子或离子在基体上沉积:工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时,则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。

 

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