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镀膜靶材

浏览:604 发表时间:2018-03-07 15:33:31

镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统,在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。

 

集成电路、平板显示是用靶材主要应用领域,其溅射产品主要包括电极互连线膜、电容器电极膜、接触薄膜、光盘掩膜、阻挡层薄膜、电阻薄膜等。

 

我国是世界上薄膜溅射靶材的最大需求地区,国内靶材材料发展速度较快。

 

目前,国内能够生产半导体用溅射靶材的企业主要有宁波江丰电子材料有限公司(以下简称“江丰电子”)和有研亿金新材料有限公司,江丰电子部分产品性能指标接近国际同行水平,产品批量进入全球集成电路制造主流企业。国内能够生产大尺寸平板显示和光伏用金属靶的企业主要有苏晶电子、金钼股份和厦门钨业等,苏州苏晶电子有限公司的高世代大尺寸平板显示面板用钼靶、铝靶和钛靶已批量供应京东方和我国台湾企业。

 

佛山金欣盛真空专业从事各种真空镀膜应用设备制造和各种产品的镀膜加工,不断引进国外先进的真空镀膜设备,多年来致力于研发和生产真空镀膜机,以最新技术不断制造出满足市场需要的真空电镀设备,为客户提供量身定做般的工艺解决方案和镀膜设备。



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